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決絕緣砷化鎵單晶微區(qū)均勻性測試方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號： SJ 20844-2002
替代情況：
發(fā)布單位： 信息產(chǎn)業(yè)部
起草單位： 中國電子科技集團(tuán)公司第四十六所
發(fā)布日期： 2002-10-30
實施日期： 2003-03-01
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更新日期： 2025年04月22日
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內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了半絕緣砷化鎵晶片中電阻率、碳濃度、EL2濃度和PL譜微區(qū)均勻性測量方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于半絕緣砷化鎵晶片中電阻率、碳濃度、EL2濃度和PL譜微區(qū)均勻性的測試。

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