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鉑鈷鉻硼合金濺射靶材

標(biāo) 準(zhǔn) 號: YS/T 1555-2022
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位: 貴研鉑業(yè)股份有限公司、有研億金新材料有限公司
發(fā)布日期: 2022-09-30
實(shí)施日期: 2023-04-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2023年10月25日
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內(nèi)容摘要

本文件規(guī)定了鉑鈷鉻硼合金濺射靶材的分類和標(biāo)記、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存及隨行文件和訂貨單內(nèi)容。
本文件適用于以高純鉑、鈷、鉻、硼為原料,經(jīng)真空熔鑄或粉末冶金燒結(jié)等工藝制得的鉑鈷鉻硼合金濺射靶材,產(chǎn)品主要用于機(jī)械硬盤磁存儲介質(zhì)的磁記錄層材料。

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