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真空離子鍍膜設(shè)備

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): JB/T 8946-2010
替代情況: 替代 JB/T 8946-1999
發(fā)布單位: 中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位: 沈陽北宇真空設(shè)備廠;沈陽真空技術(shù)研究所
發(fā)布日期: 2010-02-11
實(shí)施日期: 2010-07-01
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更新日期: 2022年03月03日
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內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空離子鍍膜設(shè)備的型式與基本參數(shù)、技術(shù)要求、設(shè)備檢驗(yàn)及其品質(zhì)評(píng)價(jià)、質(zhì)量承諾以及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于電弧蒸發(fā)離子鍍膜設(shè)備;電子束蒸發(fā)離子鍍膜設(shè)備;磁控濺射離子鍍膜設(shè)備;上述三類離子鍍膜設(shè)備的組合。其它類型的具有離子鍍膜特征的設(shè)備可參照?qǐng)?zhí)行本標(biāo)準(zhǔn)。

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