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焦深與最佳聚焦的測(cè)量規(guī)范

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 17865-1999
替代情況:
發(fā)布單位: 國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局
起草單位: 中國(guó)科學(xué)院微電子中心
發(fā)布日期: 1999-09-01
實(shí)施日期: 2000-06-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2020年02月04日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)只涉及集成電路生產(chǎn)中所用的光刻技術(shù)及其關(guān)系密切的技術(shù)的聚集與焦深測(cè)量問(wèn)題。由于設(shè)備技術(shù)多種多樣,因而不可能提出這些參數(shù)的明確測(cè)量方法。本標(biāo)準(zhǔn)只提供基本準(zhǔn)則。

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